आणविक छलनी प्रकार 5A
आणविक छलनी 5A
उत्पाद विवरण
पैकिंग मॉल आणविक छलनी 5A एक क्षार एल्यूमिना सिलिकेट है; यह टाइप ए क्रिस्टल स्ट्रक्चर का कैल्शियम रूप है। टाइप 5ए आणविक छलनी में 0.5 एनएम का प्रभावी पोर खोलना होता है। 3A और 4A आणविक छलनी के कार्यों के अलावा, 5A आणविक छलनी भी adsorb C3-C4 n-alkanes, क्लोरोएथेने, ब्रोमोएथेन, बुटेनोल, आदि कर सकते हैं, और सामान्य आइसोमर्स के पृथक्करण, दबाव स्विंग सोखना जुदाई और पानी और कार्बन डाइऑक्साइड के सह सोखने के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है। 5A आणविक सिलिका/एल्यूमिना अनुपात छलनी: SiO2/Al2O3 ≈ 2.6-3.0 एक विशेष आणविक छलनी विशेष आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए उत्पादित है क्रायोजेनिक वायु पृथक्करण उद्योग का, कार्बन डाइऑक्साइड और पानी के लिए आणविक छलनी की सोखने की क्षमता में और सुधार करें, और हवा से जुदाई प्रक्रिया में ठंड टॉवर घटना से बचें। यह भी ऑक्सीजन के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है संवर्धन।
रासायनिक आणविक सूत्र0.7 काओ। 0.3 Na2O। Al2O3.2 SiO2.4.5H2O (SiO2: Al2O3 = 2)
प्रकार | आणविक छलनी 5A | |||
रंग | लाइट ग्रे | |||
नाममात्र पोर व्यास | 5 एंगस्ट्रॉम | |||
आकार | क्षेत्र | छर्रा | ||
व्यास | 1.7-2.5 (मिमी) | 3.0-5.0 (मिमी) | 1.6 (मिमी) | 3.2 (मिमी) |
8 *12 (जाल) | 4*8 (जाल) | 1/16 (इंच) | 1/8 (इंच) | |
थोक घनत्व (जी/मिली) | ≥0.70 | ≥0.70 | ≥0.68 | ≥0.68 |
कुचल शक्ति (N/PC) | ≥35.0 | ≥85.0 | ≥25.0 | ≥45.0 |
ग्रेड तक आकार अनुपात (%) | ≥98.0 | ≥98.0 | ≥96.0 | ≥96.0 |
डायनेमिक एच2ओ सोखने (%) | ≥20.0 | ≥20.0 | ≥20.0 | ≥20.0 |
स्टेटिक एच2ओ सोखने (%) | ≥21.0 | ≥21.0 | ≥21.0 | ≥21.0 |
स्थैतिक हक्सेन सोखने (%) | ≥12.0 | ≥12.0 | ≥12.0 | ≥12.0 |
एच2ओ सामग्री (%) | ≤1.50 | ≤1.50 | ≤1.50 | ≤1.50 |
पहनें अनुपात (%) | ≤0.20 | ≤0.20 | ≤0.40 | ≤0.40 |
पुनर्जनन
पैकिंग मॉल आणविक छलनी प्रकार 5A थर्मल स्विंग प्रक्रियाओं के मामले में या तो हीटिंग द्वारा पुनर्जीवित किया जा सकता है; या कम करके दबाव स्विंग प्रक्रियाओं के मामले में दबाव। 5A आणविक छलनी से नमी को दूर करने के लिए, 250-300ºC के तापमान की आवश्यकता होती है। एक ठीक से पुनर्जीवित आणविक छलनी नमी ओस अंक नीचे -100ºC दे सकते हैं, या 2 पीपीएमवी से नीचे मर्केप्टन या सीओ 2 का स्तर। एक दबाव स्विंग प्रक्रिया पर आउटलेट सांद्रता मौजूद गैस पर निर्भर करेगा, और प्रक्रिया की शर्तों पर।
विशिष्ट आवेदन
1. एक उत्कृष्ट सोज़ोरबेंट के रूप में आणविक छलनी, H2O, CO2, H2S को हटाने के लिए उपयोग करें खट्टा प्राकृतिक गैस धाराओं, जबकि मिनी लापता COS गठन। लाइट मर्केप्टन भी सोख रहे हैं।
2. सामान्य और आइसो पैराफिन के पृथक्करण के लिए ज़ेओलाइट 5ए आणविक छलनी का उपयोग करें।
3.5 O2 और N2 गैसों के उत्पादन और शुद्धिकरण और H2 धारा से सीओ को हटाने के लिए आणविक छलनी ।
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